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NGK MEGCON II+ PRC系列:基于電阻率精密控制的超純水靜電消除解決方案

  • 發(fā)布日期:2025-08-26      瀏覽次數(shù):21
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      在半導(dǎo)體、平板顯示等高制造領(lǐng)域,超純水(UPW)清洗是至關(guān)重要的工藝環(huán)節(jié)。然而,高純度的超純水(電阻率≥18.2 MΩ·cm)幾乎不導(dǎo)電,其在高速流動和噴射過程中會產(chǎn)生顯著的靜電電荷積累,導(dǎo)致晶圓電路擊穿和微粒吸附污染,嚴(yán)重威脅產(chǎn)品良率。傳統(tǒng)的靜電消除方法存在諸多局限,而日本NGK公司推出的MEGCON II+ PRC系列,創(chuàng)新性地采用了電阻率精密控制(Performance & Reliability by Resistivity Control) 策略,為解決這一行業(yè)難題提供了方案。

      一、 傳統(tǒng)挑戰(zhàn)與PRC方案的革新性

      過去,部分工藝嘗試使用異丙醇(IPA)等化學(xué)添加劑來增加超純水的導(dǎo)電性,但這種方法會引入新的污染風(fēng)險,且后續(xù)難以徹去除。NGK的MEGCON系列另辟蹊徑,采用向超純水中溶解高純度二氧化碳(CO?) 的物理方法。CO?溶于水后生成碳酸,可逆地電離出微量H?和HCO??離子,從而安全、可控地降低超純水的電阻率,使其具備電荷中和能力。

      MEGCON II+ PRC系列的革新之處在于,它并非簡單地注入CO?,而是通過一套精密的閉環(huán)控制系統(tǒng),實現(xiàn)對超純水電阻率的實時、精準(zhǔn)調(diào)控,從而將靜電消除效果提升至未有的穩(wěn)定性和可靠性水平。

      二、 精密電阻率控制(PRC)的核心工作原理

      PRC技術(shù)是MEGCON II+系列的靈魂,其工作流程體現(xiàn)了真正的“智能化":

      1. 實時監(jiān)測(Sense): 系統(tǒng)內(nèi)置的高精度電阻率傳感器持續(xù)監(jiān)測處理后超純水的電阻率值。

      2. 智能對比(Compare): 控制系統(tǒng)將實時監(jiān)測值與用戶設(shè)定的目標(biāo)電阻率值(通常為1-10 MΩ·cm的最佳范圍)進行比對。

      3. 精確執(zhí)行(Actuate): 根據(jù)比對結(jié)果,系統(tǒng)通過精密的流量控制閥自動調(diào)節(jié)CO?的注入量。

        • 若電阻率高于設(shè)定值,則增加CO?注入量。

        • 若電阻率低于設(shè)定值,則減少CO?注入量。

      4. 閉環(huán)反饋(Feedback): 調(diào)整后的水流再次被監(jiān)測,形成一個連續(xù)的、高速響應(yīng)的閉環(huán)控制回路。

      這種原理確保了無論上游超純水的流量、壓力如何波動,系統(tǒng)輸出水流的電阻率始終穩(wěn)定在設(shè)定點,從而保證靜電中和效果的高度一致。

      三、 方案的核心優(yōu)勢與價值

      基于PRC技術(shù),該解決方案為客戶帶來了顯著的價值提升:

      • 靜電消除效果: 能將晶圓表面的靜電電位穩(wěn)定控制在±50V以內(nèi),遠(yuǎn)超行業(yè)安全標(biāo)準(zhǔn),有效杜絕靜電吸附和擊穿風(fēng)險。

      • 未有的工藝穩(wěn)定性: 閉環(huán)控制克服了流量波動的影響,即使在低至每分鐘數(shù)升的小流量工況下,也能保持電阻率穩(wěn)定,保障了批間(Run-to-Run)和片間(Wafer-to-Wafer)的工藝一致性。

      • 零0染與潔凈度保障: CO?方法無化學(xué)添加,后續(xù)可通過加熱或真空脫氣輕松去除,全恢復(fù)超純水本性,杜絕二次污染,契合高制造對潔凈度的嚴(yán)苛要求。

      • 智能化與高可靠性:

        • 警報歷史功能方便快速追溯故障根源,大幅減少停機時間。

        • 密碼保護功能防止參數(shù)誤操作,確保工藝安全。

        • 支持遠(yuǎn)程通信(RS-485/以太網(wǎng)),可輕松集成至工廠CIM系統(tǒng),實現(xiàn)智能化生產(chǎn)管理。

      四、 廣泛的應(yīng)用場景

      此解決方案廣泛應(yīng)用于一切依賴超純水清洗且對靜電敏感的精密制造領(lǐng)域:

      • 半導(dǎo)體制造: 晶圓清洗、刷洗(Scrubbing)、蝕刻后清洗等工序。

      • 平板顯示(FPD): TFT-LCD、OLED玻璃基板的濕法刻蝕與清洗工藝。

      • 光伏產(chǎn)業(yè): 太陽能電池硅片的制絨、清洗。

      • 精密光學(xué): 光學(xué)鏡頭、鏡片的最終清洗。

      五、 結(jié)論

      NGK MEGCON II+ PRC系列不僅僅是一個設(shè)備,更是一套完整的以數(shù)據(jù)驅(qū)動、以結(jié)果為導(dǎo)向的靜電消除解決方案。它通過精密控制電阻率這一核心參數(shù),將超純水靜電消除技術(shù)從“粗放添加"時代推進到了“精密控制"的新紀(jì)元。對于致力于提升良率、保障生產(chǎn)穩(wěn)定性和實現(xiàn)智能化管理的高制造企業(yè)而言,選擇MEGCON II+ PRC系列無疑是應(yīng)對超純水帶電挑戰(zhàn)的優(yōu)戰(zhàn)略決策。


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